رسوب دهی شیمیایی بخار
مقدمه
(CVD: Chemical Vapor Deposition)
یک فرایند شیمیایی است که به منظور ایجاد یک لایه با کیفیت و با کارامدی بالا بر روی سطح استفاده می¬شود.این تکنیک اصولا توسط صنایع تولید کننده قطعات نیمه رسانا برای تشکیل یک فیلم نازک مورد استفاده قرار می¬گیرد. در این روش، پیش ماده ها تبخیر شده و وارد راکتور می شوند. در این راکتور مولکول های پیش ماده جذب سطحی زیرپایه می شوند. معمولا دمای زیرپایه در محدوده خاصی تنظیم می شود. مولکول های جذب شده، یا در اثر حرارت تجزیه می شوند و یا با گازها و بخارات دیگر واکنش داده و فیلم جامدی را روی زیرپایه تشکیل می دهند. واکنش هایی که روی سطح زیرپایه انجام می شود، واکنش های ناهمگن هستند. این فرآیند از انعطاف پذیری بالایی برخوردار است و برای ساخت بسیاری از مواد مانند فلزات، مواد {{نیمه رسانا}} و سرامیک ها به کار می رود. فیلم های جامد تهیه شده می تواند آمورف، پلی‌کریستال و یا تک کریستال باشد. هم چنین می توان با تنظیم شرایط رشد، فیلم‌های جامد با خواص منحصر به فرد تهیه کرد…
ادامه مقاله در سایت جلاپردازان پرشیا
